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    關(guān)于日揚WEH®涂裝工藝介紹

    更新時間:2023-12-20      點擊次數(shù):4504

    WEH ®涂裝工藝介紹

    “WEH ®涂裝工藝"是一種納米涂層工藝,成功應(yīng)用于薄膜沉積和干刻蝕制程,是一種在真空環(huán)境下進行的高科技表面處理技術(shù)。該技術(shù)可以在材料表面上形成一層均勻、致密、具有特殊功能的薄膜,減少工藝殘留物的粘附,提高材料的抗腐蝕性和使用壽命。

    在電子領(lǐng)域,WEH ®真空涂層技術(shù)可以用于電子元器件、顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池等產(chǎn)品的制造過程中,應(yīng)用范圍非常廣泛

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    WEH ®真空涂層介紹/ABOUT WEH®

    常用于前級管道以減少副產(chǎn)品粘附的3M3700 涂層已于2021年停止生產(chǎn)。與此同時,WEH®涂層經(jīng)過層層檢驗進入市場,它有許多優(yōu)異的特性,如高硬度、高接觸角、抗腐蝕等。目前WEH ® 已成功應(yīng)用于某半導(dǎo)體廠商的排氣系統(tǒng),如廠區(qū)的氣體管線、干泵和渦輪泵等,它有效幫助企業(yè)緩解了真空管道和設(shè)備內(nèi)的粉塵顆粒堵塞問題。

    1真空零件涂層的分類





    _

    陶瓷類

    環(huán)氧類

    物性

    薄,硬

    厚,軟

    顏色

    透明無色

    黑色、綠色、白色

    產(chǎn)品例

    WEH ®, 3M 3700

    Epoxy-base Teflon


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    WEH ®涂層的性質(zhì)


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    經(jīng)過日揚科技一系列的產(chǎn)品測試和市場實例檢驗,WEH ®涂層較之其他的同類產(chǎn)品,有著良好的疏水性、耐溫性、接著性抗腐蝕性,同時,其高硬度低粗糙度也符合真空零件納米涂層的優(yōu)異特性。在薄膜沉積系統(tǒng)和干刻蝕制程中,該涂層表現(xiàn)效果良好。

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    WEH ®涂層的作用


    WEH ®涂層:有效延長使用壽命和零件保護


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    WEH ®涂層有效保護了部分制程特別是例如AI-Pad、ALD和MOCVD制程中所需的設(shè)備與管道,在真空環(huán)境下的的薄膜沉積與干刻蝕系統(tǒng)中,設(shè)備與零件有著非常高的精度和技術(shù)要求,這意味著它們的維護周期對產(chǎn)線稼動率和生產(chǎn)效益的影響非常大。


    4

    WEH ®涂層的COA認(rèn)證


    WEH ®認(rèn)證(Certified of Analysis,COA)

    項目

    規(guī)格

    疏水性

    油墨在表面無法書寫

    厚度

    0.5~ 5um

    粗糙度

    ≦ 1 um

    斷裂強度

    ≦ 6.0×10-9 mbar?/sec




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    現(xiàn)場測試 Field Test at 5B


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    —進行涂裝WEH ® 處理的金屬部件—


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    從圖中可以看出,在金屬內(nèi)壁進行WEH ®涂裝處理后, 使得背壓大幅降低,長時間不衰減。


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    進行中的測試案例 5


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    劃格測試Cross-Cut Test


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    劃格測試采用的是3M 600 Scotch type,在切口邊緣分離出小的WEH ®薄片,不大于 5% 的橫切區(qū)域,表示符合4B ~ 5B的測試標(biāo)準(zhǔn)。


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    接觸角測試Contact Angle Test


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    WEH ®具有106.15度的接觸角,表示材料具有疏水性,不易產(chǎn)生殘留物粘附。


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    腐蝕性測試 Corrosion Test


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    腐蝕測試步驟:

    1.滴上數(shù)滴鹽酸 HCl 在測試樣品表面。

    2.等待24 hr,測量腐蝕面積。

    3.測試結(jié)果(腐蝕面積):

    WEH ® < 3M3700 < Non Coating


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    表面粗糙度測試Roughness Variation


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    表面粗糙度對沉積的影響非常大,隨時間的推移,零件的內(nèi)表面容易造成殘留物沉積,進而降低氣體流速,影響反應(yīng)速率。WEH ®涂層經(jīng)試驗測出對降低材料表面粗糙度有很大作用。


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    硬度測試Hardness Test


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    1.硬度測試根據(jù)ASTM D3363-22通過鉛筆測試進行

    2.環(huán)境溫度:(23 +/- 2)℃

    3.濕度: (50 +/- 5)%

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    除去以上檢驗之外,WEH ®還通過了沉積物對比、電子能譜分析和等離子蝕刻測試,其蝕刻速率是氧化物的1/50,蝕刻速率小于0.5 nm/min,這意味著WEH®可以保護部件免受離子轟擊的損壞。


    好的證明是市場的證明,目前WEH ® 已成功應(yīng)用于某半導(dǎo)體廠商的排氣系統(tǒng),它有效地緩解了電子器件制程中的設(shè)備粉塵顆粒阻塞問題。其優(yōu)異的特性幫助客戶拉長了設(shè)備維護周期,節(jié)省了大量維護成本。

    日揚一直秉承著“成為客戶有價值的伙伴"的企業(yè)使命,幫助客戶發(fā)現(xiàn)問題、分析問題、解決問題。如果您需要更多關(guān)于WEH®的產(chǎn)品咨詢,請聯(lián)系我們。1 3 5 0 2 8 6 1 4 1 5



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